La demande de colles et/ou d'adhésifs dits UV ou photopolymérisables a connu une croissance exponentielle au cours des cinq dernières années et ce taux de croissance devrait se poursuivre étant donné la nature écologique de cette technologie.
Les colles et adhésifs UV ou photopolymérisables offrent :
Les colles et adhésifs industriels photopolymérisables durcissent en quelques secondes dès l’exposition à la lumière ultraviolette et/ou à la lumière visible, d’où un indéniable avantage de ce procédé.
Un cours plus complet sur le collage industriel existe en présentiel sur une journées entière (voir ici)
Cette formation en ligne s'adresse aux ingénieurs ou techniciens travaillant dans des bureaux d’études, méthodes, production, contrôle et qualité, innovation et veille technologique.
Dr Khalid Zahouily, fondateur de la société Photon &Polymers et expert international reconnu dans le domaine des matériaux photopolymères et de la technologie UV. Il a obtenu son doctorat "en Photochimie et Photopolymères" à L'université de Haute Alsace en 1994. Il a rejoint le CNRS équipe du Prof Christian DECKER comme chef de Projet Matériaux-Innovants et Photopolymères. Il a conduit avec succès plusieurs projets de collaboration R&D avec Ciba, Dupont, 3M, Clariant, BASF, Bayer, GUCCI, ARI-LIQUIDE, THALES etc....
Après une douzaine d'année d'expérience, il crée en 2001 sa propre entreprise " Photon &Polymers" qui est à l’origine de nombreuses innovations technologiques couvrant un large domaine d’applications depuis les Nanotechnologies jusqu’aux Réseaux Routiers en passant par le Bâtiment, le Médical ou encore les Arts Graphiques…
Dr Khalid ZAHOUILY est Expert :
Date et Lieu (jj.mm.aaaa) | Ce cours n'est pas agendé en ce moment. Veuillez nous contacter en cas d'intérêt |
Coût (EARLY BIRD) | CHF 150.00 |
Coût | CHF 150.00 |
Langue | Français |
Inscription | Deux semaines avant le cours |
Organisation | FSRM, Fondation suisse pour la recherche en microtechnique |
Informations et inscription | Gilles Delachaux, FSRM, e-mail: fsrm@fsrm.ch |